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產(chǎn)品概覽 技術(shù)規格 資料下載 行業(yè)應用

適用于背散射電子衍射(EBSD)或原子力顯微鏡分析(AFM)

VibroMet® 2振動(dòng)拋光機可快速去除樣品表面機械化制樣后殘留的細微變形層,從而得到無(wú)應力的制備表面,而不必使用電解拋光制備所必需的危險電解液。

結合VibroMet 2與MasterMet 2二氧化硅拋光液對樣品進(jìn)行化學(xué)-機械拋光,


不同于傳統的振動(dòng)拋光機,VibroMet 2可以產(chǎn)生幾乎完全水平方向的振動(dòng),*大限度地提高了樣品接觸拋光布的時(shí)間。

用戶(hù)設定好程序后就可以離開(kāi),樣品會(huì )在拋光盤(pán)中自動(dòng)地開(kāi)始振動(dòng)拋光。





快速去除樣品表面變形層

? 水平運動(dòng)溫和地拋光樣品不引起機械應力

? 所得樣品表面適用于背散射電子衍射(EBSD)或原子力顯微鏡分析(AFM)

? 對混合材料和不均勻樣品都能達到上乘的制備效果



無(wú)需使用危險電解液

? 替換電解拋光儀和危險電解液

? 結合VibroMet 2 與MasterMet二氧化硅拋光液,MicroCloth 拋光布對樣品進(jìn)行化學(xué)-機械拋光



設定后無(wú)需過(guò)多留心

? 樣品在拋光盤(pán)中可自動(dòng)開(kāi)始振動(dòng)拋光

? 12in [305 mm]直徑拋光盤(pán)可同時(shí)制備多達18個(gè)樣品



VibroMet? 2 振動(dòng)拋光機

? 振動(dòng)拋光機用于在機械制備后去除剩余的輕微變形,以顯現無(wú)應力的表面,而不必使用電解拋光所需的危險的電解液

? 將VibroMet 2 和MasterMet? 2 膠體二氧化硅配合使用,進(jìn)行化學(xué)機械拋光的試樣表面可滿(mǎn)足電子背散射衍射(EBSD)或原子力顯微鏡(AFM) 分析

? 和*終拋光液配合使用(pg.69-70)

? 磨盤(pán)尺寸為12in [305mm]


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